Silikonkarbied SiC-bedekte epitaksiale reaktorvat

Kort beskrywing:

Semicera bied 'n omvattende reeks susceptors en grafietkomponente wat ontwerp is vir verskeie epitaksereaktore.

Deur strategiese vennootskappe met toonaangewende OEM's, uitgebreide materiaalkundigheid en gevorderde vervaardigingsvermoëns, lewer Semicera pasgemaakte ontwerpe om aan die spesifieke vereistes van jou toepassing te voldoen.Ons verbintenis tot uitnemendheid verseker dat u optimale oplossings vir u epitaksereaktorbehoeftes ontvang.

Stuur e-pos aan ons

Produkbesonderhede

Produk Tags

Ons maatskappy verskafSiC-bedekkingverwerk dienste op die oppervlak van grafiet, keramiek en ander materiale volgens CVD-metode, sodat spesiale gasse wat koolstof en silikon bevat by hoë temperatuur kan reageer om hoë-suiwer Sic-molekules te verkry, wat op die oppervlak van bedekte materiale neergelê kan word om 'nSiC beskermende laagvir epitaksie vat tipe hy pnotiese.

Belangrikste kenmerke:

1. Hoë suiwer SiC-bedekte grafiet

2. Uitstekende hitte weerstand & termiese eenvormigheid

3. GoedSiC kristal bedekvir 'n gladde oppervlak

4. Hoë duursaamheid teen chemiese skoonmaak

Silikonkarbied SiC-bedekte epitaksiale reaktorvat

Hoof spesifikasies vanCVD-SIC Coating

SiC-CVD-eienskappe
Kristal struktuur	FCC β fase
Digtheid	g/cm³	3.21
Hardheid	Vickers hardheid	2500
Graan grootte	μm	2~10
Chemiese suiwerheid	%	99,99995
Hitte kapasiteit	J·kg-1 ·K-1	640
Sublimasie temperatuur	℃	2700
Feleksurale sterkte	MPa (RT 4-punt)	415
Young se modulus	Gpa (4pt-buiging, 1300℃)	430
Termiese uitbreiding (CTE)	10-6K-1	4.5
Termiese geleidingsvermoë	(W/mK)	300