Bekendstelling van wafer draer
PRODUK KATAGORIE
▶Wafer Carrier System vir PECVD & TALOX Proses
• PECVD & TALOX Grafietboot (M4~M12)
• Vertikale SM-boot (M4, M6)
• Inplant en stort grafietdeel (M4~M6)
• C/C Skinkbord & Keramiekbedekking
• Metaal RIE-Tray & Keramiek Coating
• Vakuum verseëling: O-ring & SQ-ring
▶Teksturering en nat ets-oordragproses
• LSC H-draer of kasset (M4~M12)
• LSC V-draer of kasset (M4~M12)
• ASC Draer of kasset (M4, M6)
• W/F-draer en stoorkas (M4~M12)
• Vervoerwiel (Roller) Reeks
▶Sonseldraer en metaaldraer
• TRC-draer of kasset (M4~M12)
• Tydskrif (met BELT)
GRAFIET BOOT (H-tipe)
19P6-216CT (WF M4~M12)
GRAFIET BOOT (H-tipe)
21P6-240CT WF M4~M12)
GRAFIET BOOT (H-tipe)
23P7-308CT(W/F M4~M12)
GRAFIET BOOT (H-tipe)
22P/7-294TP (W/F M4~M12)
GRAFIET BOOT (H-tipe)
W182-22P7-294CT (W/F M12)
W182-21P6-240CT (W/F M12)
WF DRAER EN STOORBOKS (~M12)
C/C-BAKKEN of DRAER(M4~M10)
C/C-BAKKEN of DRAER(M4~M10)
VERTIKALE BOOT (SM) M6
LSC-H-DRAER(~M12)
LSC-V-DRAER(~M12)
ASC-DRAER (~M6)
WVK-DRAER(~M12)
WVK-DRAER(~M12)
GRAFIET-BOOT(M12)
Wafer Carrier System vir PECVD-proses
▶ GRAFIET BOOT (CT-ontwerp) M10/M12 Proses
• SPESIALE ONTWERP KONSEP
▶ GRAFIET BOOT (CT-ontwerp) M4/M6 Proses
▶ BOOT Toebehore Onderdele
▶ VERTIKALE BOOT-161.7mm WAFER
▶ VERTIKALE BOOT-166mm WAFER
▶ VERTIKALE BOOT-161.7mm, 166mm WAFER
Solar Cell Carrier & Metal TRC Carrier
TIPE: Outomatisering
WAFERGROOTTE: ① 156×156MM ② 156.75×156.75MM
③161.7x161.7MM ④166x166MM
⑤ 180×180 mm ⑥ 210×210 mm
GEBRUIK: Dra (kasset)
KAPASITEIT: 100 velle
STEEK: 4.76MM/5.953mm/6.35mm
AFMETING: Ongeveer 559×220×220MM
Ongeveer 712×260×260MM
VOORDEEL: Atmosfeer
MATERIAAL: VLAM, SYSTAAF-Aluminium (anodisering)
SY PLAAT-POM (Antistaties)
Omslag van onderste staaf-EPDM/PU/VITON (ASE)
TRC-METAAL DRAER (GEBRUIKERSLYN)
TRC-METAAL DRAER (GEBRUIKERSLYN)
TRC-METAAL DRAER (GEBRUIKERSLYN)
STORTPLAAT & IMPLANTATIE, DRAER
