DEEL/1CVD (Chemical Vapor Deposition) metode: By 900-2300 ℃, gebruik TaCl5 en CnHm as tantaal- en koolstofbronne, H₂ as reducerende atmosfeer, Ar₂as-draergas, reaksie-afsettingsfilm. Die voorbereide laag is kompak, eenvormig en hoë suiwerheid. Daar is egter 'n paar probleme ...
Lees meer