Fotoresist word tans wyd gebruik in die verwerking en vervaardiging van fyn grafiese stroombane in die opto-elektroniese inligtingsbedryf. Die koste van die fotolitografie-proses maak ongeveer 35% van die hele skyfievervaardigingsproses uit, en die tydverbruik is verantwoordelik vir 40% tot 60% van die hele skyfieproses. Dit is die kernproses in halfgeleiervervaardiging. Fotoresistmateriale is verantwoordelik vir ongeveer 4% van die totale koste van chipvervaardigingsmateriaal en is die kernmateriaal vir halfgeleier-geïntegreerde stroombaanvervaardiging.
Die groeikoers van China se fotoresistmark is hoër as die internasionale vlak. Volgens data van die Voornemende Nywerheidsnavorsingsinstituut was my land se plaaslike aanbod van fotoresist in 2019 ongeveer 7 miljard yuan, en die saamgestelde groeikoers sedert 2010 het 11% bereik, wat baie hoër is as die globale groeikoers. Die plaaslike aanbod maak egter net sowat 10% van die wêreldaandeel uit, en die plaaslike vervanging is hoofsaaklik vir lae-end PCB fotoresists bereik. Die selfvoorsieningsyfer van fotoweerstande in die LCD- en halfgeleiervelde is uiters laag.
Fotoresist is 'n grafiese oordragmedium wat verskillende oplosbaarheid na ligreaksie gebruik om die maskerpatroon na die substraat oor te dra. Dit is hoofsaaklik saamgestel uit fotosensitiewe middel (foto-inisieerder), polimeriseerder (fotosensitiewe hars), oplosmiddel en bymiddel.
Die grondstowwe van fotoresist is hoofsaaklik hars, oplosmiddel en ander bymiddels. Onder hulle is oplosmiddel verantwoordelik vir die grootste deel, gewoonlik meer as 80%. Alhoewel ander bymiddels minder as 5% van die massa uitmaak, is dit sleutelmateriale wat die unieke eienskappe van fotoweerstand bepaal, insluitend fotosensibiliseerders, oppervlakaktiewe middels en ander materiale. In die fotolitografie-proses word fotoresist eweredig bedek op verskillende substrate soos silikonwafels, glas en metaal. Na blootstelling, ontwikkeling en ets word die patroon op die masker na die film oorgedra om 'n geometriese patroon te vorm wat heeltemal met die masker ooreenstem.
Fotoweerstand kan volgens sy stroomafwaartse toepassingsvelde in drie kategorieë verdeel word: halfgeleierfotoweerstand, paneelfotoweerstand en PCB-fotoweerstand.
Halfgeleier fotoweerstand
Op die oomblik is KrF/ArF steeds die hoofstroom verwerkingsmateriaal. Met die ontwikkeling van geïntegreerde stroombane het fotolitografietegnologie deur die ontwikkeling gegaan van G-lyn (436nm) litografie, H-lyn (405nm) litografie, I-lyn (365nm) litografie, tot diep ultraviolet DUV litografie (KrF248nm en ArF193nm), 193nm onderdompeling plus veelvuldige beeldtegnologie (32nm-7nm), en dan tot uiterste ultraviolet (EUV, <13.5nm) litografie, en selfs nie-optiese litografie (elektronstraalblootstelling, ioonstraalblootstelling), en verskeie tipes fotoweerstande met ooreenstemmende golflengtes as fotosensitiewe golflengtes is ook toegepas.
Die fotoresistmark het 'n hoë graad van industriekonsentrasie. Japannese maatskappye het 'n absolute voordeel op die gebied van halfgeleier-fotoresists. Die belangrikste halfgeleier-fotoweerstandvervaardigers sluit Tokyo Ohka, JSR, Sumitomo Chemical, Shin-Etsu Chemical in Japan in; Dongjin Semiconductor in Suid-Korea; en DowDuPont in die Verenigde State, waaronder Japannese maatskappye sowat 70% van die markaandeel beslaan. Wat produkte betref, lei Tokyo Ohka op die gebied van g-line/i-line en Krf-fotoweerstande, met markaandele van onderskeidelik 27,5% en 32,7%. JSR het die hoogste markaandeel op die gebied van Arf-fotoresist, teen 25,6%.
Volgens Fuji Ekonomiese voorspellings word verwag dat die wêreldwye ArF- en KrF-gomproduksievermoë in 2023 1 870 en 3 650 ton sal bereik, met 'n markgrootte van byna 4,9 miljard en 2,8 miljard yuan. Die bruto winsmarge van die Japannese fotoresist-leiers JSR en TOK, insluitend fotoresist, is sowat 40%, waarvan die koste van fotoresist-grondstowwe sowat 90% uitmaak.
Binnelandse halfgeleier-fotoresistvervaardigers sluit Sjanghai Xinyang, Nanjing Optoelectronics, Jingrui Co., Ltd., Beijing Kehua en Hengkun Co., Ltd. in. Tans het slegs Beijing Kehua en Jingrui Co., Ltd. , en Beijing Kehua se produkte is aan SMIC verskaf. Die 19 000 ton/jaar ArF (droë proses) fotoresistprojek wat in Sjanghai Xinyang aan die gang is, sal na verwagting in 2022 volle produksie bereik.
Paneel fotoweerstand
Fotoweerstand is 'n sleutelmateriaal vir die vervaardiging van LCD-paneel. Volgens verskillende gebruikers kan dit verdeel word in RGB-gom, BM-gom, OC-gom, PS-gom, TFT-gom, ens.
Paneel-fotoweerstande sluit hoofsaaklik vier kategorieë in: TFT-bedrading-fotoweerstande, LCD/TP-spasiëerder-fotoweerstande, kleur-fotoweerstande en swart fotoweerstande. Onder hulle word TFT-bedrading-fotoresists gebruik vir ITO-bedrading, en LCD/TP-presipitasie-fotoresists word gebruik om die dikte van die vloeibare kristalmateriaal tussen die twee glassubstrate van die LCD konstant te hou. Kleurfotoresists en swart fotoresists kan kleurfilters kleurweergawe-funksies gee.
Die paneelfotoresistmark moet stabiel wees, en die vraag na kleurfotoresists is leidend. Daar word verwag dat globale verkope 22 900 ton sal bereik en verkope sal US$877 miljoen in 2022 bereik.
Die verkope van TFT-paneel-fotoweerstande, LCD/TP-spasieer-fotoweerstande en swart fotoweerstande sal na verwagting in 2022 onderskeidelik VS$321 miljoen, US$251 miljoen en US$199 miljoen bereik. Volgens Zhiyan Consulting se ramings sal die wêreldwye paneelfotoweerstandmarkgrootte bereik RMB 16,7 miljard in 2020, met 'n groeikoers van ongeveer 4%. Volgens ons ramings sal die fotoresistmark RMB 20,3 miljard teen 2025 bereik. Onder hulle, met die oordrag van die LCD-industriesentrum, word verwag dat die markgrootte en lokaliseringstempo van LCD-fotoresist in my land geleidelik sal toeneem.
PCB fotoresist
PCB-fotoweerstand kan volgens die deklaagmetode in UV-verhardingsink en UV-spuitink verdeel word. Tans het binnelandse PCB-inkverskaffers geleidelik huishoudelike vervanging bereik, en maatskappye soos Rongda Photosensitive en Guangxin Materials het die sleuteltegnologieë van PCB-ink bemeester.
Huishoudelike TFT-fotoweerstand en halfgeleierfotoweerstand is nog in die aanvanklike eksplorasiestadium. Jingrui Co., Ltd., Yak Technology, Yongtai Technology, Rongda Photosensitive, Xinyihua, China Electronics Rainbow, en Feikai Materials het almal uitlegte op die gebied van TFT-fotoweerstand. Onder hulle het Feikai Materials en Beixu Electronics beplande produksievermoë van tot 5 000 ton/jaar. Yak Technology het hierdie mark betree deur die kleurfotoresistafdeling van LG Chem te verkry, en het voordele in kanale en tegnologie.
Vir nywerhede met uiters hoë tegniese hindernisse soos fotoweerstand, is die bereiking van deurbrake op tegniese vlak die grondslag, en tweedens word voortdurende verbetering van prosesse vereis om in die behoeftes van die vinnige ontwikkeling van die halfgeleierbedryf te voorsien.
Welkom by ons webwerf vir produkinligting en konsultasie.
Pos tyd: Nov-27-2024