-
SiC Coating Wheel Gear: Verbetering van halfgeleiervervaardigingsdoeltreffendheid
In die vinnig vorderende veld van halfgeleiervervaardiging is akkuraatheid en duursaamheid van toerusting uiters belangrik om hoë opbrengste en kwaliteit te behaal. Een van die sleutelkomponente wat dit verseker, is die SiC Coating Wheel Gear, ontwerp om die doeltreffendheid van prosesse te verbeter...Lees meer -
Wat is 'n kwartsbeskermingsbuis? | Semicera
Die kwartsbeskermingsbuis is 'n noodsaaklike komponent in verskeie industriële toepassings, bekend vir sy uitstekende werkverrigting in uiterste toestande. By Semicera vervaardig ons kwartsbeskermingsbuise wat ontwerp is vir hoë duursaamheid en betroubaarheid in moeilike omgewings. Met uitstaande karakter...Lees meer -
Wat is CVD-bedekte prosesbuis? | Semicera
'n CVD-bedekte prosesbuis is 'n kritieke komponent wat in verskeie hoë-temperatuur en hoë-suiwer vervaardigingsomgewings gebruik word, soos halfgeleier- en fotovoltaïese produksie. By Semicera spesialiseer ons in die vervaardiging van hoë kwaliteit CVD-bedekte prosesbuise wat uitstekende ...Lees meer -
Wat is isostatiese grafiet? | Semicera
Isostatiese grafiet, ook bekend as isostaties gevormde grafiet, verwys na 'n metode waar 'n mengsel van grondstowwe in reghoekige of ronde blokke saamgepers word in 'n stelsel wat koue isostatiese pers (CIP) genoem word. Koue isostatiese pers is 'n materiaalverwerkingsmetode wat ...Lees meer -
Wat is Tantaalkarbied? | Semicera
Tantaalkarbied is 'n uiters harde keramiekmateriaal wat bekend is vir sy uitsonderlike eienskappe, veral in hoë-temperatuur omgewings. By Semicera spesialiseer ons in die verskaffing van topgehalte tantaalkarbied wat uitstekende werkverrigting bied in nywerhede wat gevorderde materiale benodig vir uiterste ...Lees meer -
Wat is 'n Quartz Furnace Core Tube? | Semicera
'n Kwartsoond-kernbuis is 'n noodsaaklike komponent in verskeie hoëtemperatuurverwerkingsomgewings, wat wyd gebruik word in nywerhede soos halfgeleiervervaardiging, metallurgie en chemiese verwerking. By Semicera spesialiseer ons in die vervaardiging van hoë kwaliteit kwarts oond kernbuise wat bekend is ...Lees meer -
Droë Ets Proses
Droë-etsproses bestaan gewoonlik uit vier basiese toestande: voor ets, gedeeltelike ets, net ets en oor-ets. Die hoofkenmerke is etstempo, selektiwiteit, kritieke dimensie, eenvormigheid en eindpuntopsporing. Figuur 1 Voor ets Figuur 2 Gedeeltelike ets Figuur...Lees meer -
SiC Paddle in halfgeleiervervaardiging
Op die gebied van halfgeleiervervaardiging speel die SiC Paddle 'n deurslaggewende rol, veral in die epitaksiale groeiproses. As 'n sleutelkomponent wat in MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition) stelsels gebruik word, is SiC Paddles ontwerp om hoë temperature en ...Lees meer -
Wat is Wafer Paddle? | Semicera
'n Wafelroeispan is 'n deurslaggewende komponent wat in die halfgeleier- en fotovoltaïese industrieë gebruik word om wafers tydens hoë-temperatuur prosesse te hanteer. By Semicera is ons trots op ons gevorderde vermoëns om topgehalte wafer-roeispane te vervaardig wat aan die streng eise van...Lees meer -
Halfgeleierproses en -toerusting (7/7) - Dunfilmgroeiproses en -toerusting
1. Inleiding Die proses om stowwe (grondstowwe) aan die oppervlak van substraatmateriaal te heg deur fisiese of chemiese metodes word dunfilmgroei genoem.Volgens verskillende werkbeginsels kan geïntegreerde stroombaan dunfilmafsetting verdeel word in:-Fisiese dampneerlegging ( P...Lees meer -
Halfgeleierproses en -toerusting (6/7) - Ioon-inplantingsproses en -toerusting
1. Inleiding Iooninplanting is een van die hoofprosesse in geïntegreerde stroombaan vervaardiging. Dit verwys na die proses om 'n ioonstraal tot 'n sekere energie te versnel (gewoonlik in die reeks van keV tot MeV) en dit dan in die oppervlak van 'n soliede materiaal in te spuit om die fisiese prop...Lees meer -
Halfgeleierproses en -toerusting (5/7) - Etsproses en -toerusting
Een inleiding Ets in die vervaardigingsproses van geïntegreerde stroombaan word verdeel in: - Nat ets; - Droë ets. In die vroeë dae is nat ets wyd gebruik, maar as gevolg van sy beperkings in lynwydtebeheer en etsrigting, gebruik die meeste prosesse na 3μm droë ets. Nat ets is...Lees meer